Source de pulvérisation carrée HV

Performances flexibles du magnétron grâce à une commande modulaire

Notre sources de pulvérisation carrées sont conçus pour une polyvalence maximale et une fiabilité à long terme. Au cœur de leur fonctionnement se trouve un réseau d'aimants modulairesEntièrement isolé de l'eau de refroidissement afin de prévenir la corrosion des aimants et la dégradation de leurs performances, ce système intelligent garantit un fonctionnement stable dans le temps tout en permettant… accès facile à la configuration magnétique interne, de sorte que la même source puisse être adaptée à différentes exigences de processus.

Ces sources prennent en charge une large gamme de modes de pulvérisation, notamment :

• Fonctionnement du magnétron équilibré et déséquilibré
• Compatibilité avec cibles en matériau magnétique
• Pulvérisation cathodique de diodes les configurations

Conçues pour répondre à divers besoins d'application, les sources de pulvérisation carrées permettent :

• pulvérisation cathodique inverse
• Ajustable taux de pulvérisation
• Contrôle précis sur énergie des électrons
• Optimisation de tension de décharge pour des performances plasma efficaces et stables

Il en résulte une solution de pulvérisation cathodique hautement adaptable, idéale pour la recherche, le développement et les procédés avancés de dépôt de couches minces.

Caractéristiques principales

• Taille cible (ST1550 – ST2080) : 5.0″ × 1.5″ à 8.0″ × 2.0″
• Puissance maximale (CC/RF) : 150 / 150 W jusqu'à 1500 / 1000 W
• Débit d'eau de refroidissement : 0.4 – 3.0 L/min
• Dimensions de la tête source : 6.35″ × 2.85″ à 9.51″ × 3.50″
• Hauteur de la tête source : 2.85 "à 3.68"