Source d'évaporation par faisceau d'électrons

Films de haute pureté et revêtements optiques de précision

L'évaporation par faisceau d'électrons est une méthode fiable pour produire couches minces uniformes et de haute pureté et revêtements optiques. Notre Source d'évaporation par faisceau d'électrons est un canon à électrons auto-accélérateur conçu pour fonctionner dans environnements de vide poussé et ultra-poussé ((U)HV), offrant une excellente stabilité et une utilisation optimale des matériaux.

Le système génère un faisceau d'électrons focalisé à partir d'un filament de tungstène chaud Maintenu à un potentiel négatif élevé, ce faisceau contrôlé avec précision permet de fondre et d'évaporer efficacement le matériau source tout en minimisant la contamination ; il est idéal pour les applications de revêtement exigeantes.

Caractéristiques et spécifications clés:

• Creusets interchangeables disponibles chez 7 cc à 40 cc
• Jusqu'à 10 kW capacité de puissance maximale
• Tension d'émission réglable à partir de –6 kV à –10 kV
• Puissance du filament : 700 W pour une génération de faisceau stable
• déviation du faisceau à 270° pour un chauffage uniforme de la cible
• serré diamètre du faisceau : 0.25 pouce pour un contrôle précis de l'évaporation

Conçue pour la performance et la fiabilité, cette source d'évaporation par faisceau d'électrons est un excellent choix pour la recherche, le revêtement optique et les procédés de dépôt de haute pureté nécessitant un contrôle et une répétabilité maximum.