Alimentations CC et RF

pulvérisation cathodique CC utilise un courant continu constant pour générer un plasma stable, ce qui en fait un choix très efficace et économique pour les cibles conductrices.
Notre Alimentations DC sont conçus pour un fonctionnement quotidien fiable et comportent :

• Technologie de commutation à haut rendement
• Ciblage contrôle de la puissance, du courant et de la tension
• Intégration suppression d'arc pour la stabilité du processus
• Connecteurs à distance et sécurité les verrouillages pour une intégration système aisée

Pulvérisation RF, en revanche, alterne la charge électrique pour éviter l'accumulation de charges sur la cible, ce qui la rend idéale pour les matériaux isolants et diélectriques.
Notre Alimentations RF assurer un contrôle de processus avancé grâce à :

• Des systèmes et infrastructures entièrement fonctionnement programmable et stockage des recettes de processus
• Contrôlé montée et descente en puissance pour réduire les contraintes thermiques sur les cibles
• Compatibilité avec réseaux de correspondance manuels ou automatiques pour un transfert de puissance optimal

Que vous ayez besoin de la simplicité et de l'efficacité du courant continu ou de la flexibilité et du contrôle des radiofréquences, nos solutions d'alimentation sont conçues pour répondre à vos besoins. plasma stable, résultats reproductibles et longue durée de vie de la cible.