Alimentation CC 20 000 watts, 35 ampères max., refroidissement par air et par eau, analogique et RS485. Mode de fonctionnement : ampère, watt ou volt constant.

Efficace. Précis. Conçu pour les systèmes à magnétron.

La pulvérisation cathodique au plasma DC est une rentable et fiable Procédé de dépôt de revêtements conducteurs d'électricité. Conçu spécifiquement pour pulvérisation cathodique magnétronique au plasma, notre alimentation CC offre des performances exceptionnelles avec technologie à découpage atteignant un rendement énergétique supérieur à 90 %—réduire la consommation d’énergie sans compromettre la stabilité.

Conçu pour systèmes de pulvérisation magnétronique à petite échelle, il offre un contrôle précis sur puissance, courant et tension, garantissant des conditions de plasma constantes et des résultats de revêtement reproductibles. Intégré allumage par plasma et détection d'arcs améliorer la fiabilité du processus et protéger à la fois la cible et le substrat.

Les fonctionnalités avancées poussent la flexibilité encore plus loin :

• Montée et descente en puissance programmables pour un contrôle de processus en douceur
• Optimisé pour les configurations de pulvérisation multi-cibles et de qualité recherche

Il en résulte une solution de pulvérisation cathodique DC compacte, efficace et hautement contrôlable, idéale pour les laboratoires, les environnements de R&D et les applications de revêtement de précision.