Sources de pulvérisation

Sources de pulvérisation magnétronique UHV

Conçues pour offrir flexibilité et performance, nos sources de pulvérisation magnétronique UHV prennent en charge :

• Fonctionnement des électrons à haute ou basse énergie
• Matériaux cibles magnétiques et non magnétiques
• Configurations de magnétrons multiples déséquilibrées
• Configurations de pulvérisation cathodique à haut ou bas débit
• Fonctionnement avec des alimentations CC, CC pulsé ou RF

Que vous ayez besoin de précision, de rapidité ou de polyvalence, ces sources vous garantissent des résultats fiables.

Sources de pulvérisation rondes et carrées

Nos sources de pulvérisation rondes et carrées comportent une réseau d'aimants modulaires Conçu pour une uniformité exceptionnelle, ce procédé modulaire permet une optimisation aisée en fonction de vos exigences, garantissant ainsi une épaisseur et une qualité de film constantes.