Source de plasma à ondes élevées

Le HAUTE ONDE est une source de plasma collisionnel micro-ondes conçue pour la génération de plasma stable à partir de 10⁻² à 10⁻¹ mbar, même à faible puissance micro-ondes et dans n'importe quel gaz. Sa conception coaxiale élimine les pertes de puissance internes et garantit correspondance automatique au aucune puissance réfléchie sur une décennie de pression complète. Dans les configurations multisources, les densités de plasma supérieures à 10¹² cm⁻³ peut être obtenu à quelques centimètres seulement de la source. Associé à un générateur à semi-conducteurs SAIREM, la puissance peut être contrôlée. Watt par Wattavec une fréquence variable compensant les désadaptations. Idéal pour les environnements de R&D et industriels.

Applications : Gravure RIE et gravure profonde, PECVD, génération de radicaux, ALD, diamant nanocristallin, traitement de surface (ex. nitruration), stérilisation.