DC- en RF-voedingen

DC-sputteren Het maakt gebruik van een constante gelijkstroom om stabiel plasma te genereren, waardoor het een zeer efficiënte en kosteneffectieve keuze is voor geleidende materialen.
Het DC voedingen zijn ontworpen voor betrouwbaar dagelijks gebruik en beschikken over de volgende kenmerken:

• Hoogefficiënte schakeltechnologie
• nauwkeurig vermogens-, stroom- en spanningsregeling
• geïntegreerde boogonderdrukking voor processtabiliteit
• Externe connectoren en veiligheid vergrendelingen voor eenvoudige systeemintegratie

RF-sputterenAan de andere kant wisselt het de elektrische lading af om ladingopbouw op het doelwit te voorkomen, waardoor het ideaal is voor isolerende en diëlektrische materialen.
Het RF-voedingen Lever geavanceerde procesbesturing met:

• Volledige programmeerbare werking en het opslaan van recepten
• Controlled vermogensopbouw en -afbouw om de thermische belasting op de doelen te verminderen
• Compatibiliteit met handmatige of automatische matchingnetwerken voor optimale krachtoverdracht

Of u nu de eenvoud en efficiëntie van gelijkstroom (DC) nodig hebt of de flexibiliteit en controle van radiofrequentie (RF), onze voedingsoplossingen zijn ontworpen om aan uw behoeften te voldoen. stabiel plasma, herhaalbare resultaten en een lange levensduur van het doelwit.