3 raccords à compression 1/8″, DN40KF

Équipement de dépôt de couches minces haute performance

Unlock precision, purity, and reliability with our advanced range of évaporateurs à faisceau d'électrons, sources de pulvérisation magnétronique et systèmes de dépôt complets.

Electron Beam Evaporation Sources

Créez des films d'une uniformité et d'une pureté exceptionnelles grâce à notre technologie d'évaporation par faisceau d'électrons. Chaque source utilise un faisceau d'électrons auto-accéléré generated by a hot tungsten filament at high negative potential, enabling:

• Clean, controlled material evaporation
• revêtements optiques de qualité supérieure
• Qualité d'image constante pour des applications exigeantes

Sources de pulvérisation magnétronique UHV

Conçues pour offrir flexibilité et performance, nos sources de pulvérisation magnétronique UHV prennent en charge :

• Fonctionnement des électrons à haute ou basse énergie
• Matériaux cibles magnétiques et non magnétiques
• Configurations de magnétrons multiples déséquilibrées
• High‑rate or low‑rate sputtering setups
• Operation with DC, pulsed DC, or RF power supplies

Que vous ayez besoin de précision, de rapidité ou de polyvalence, ces sources vous garantissent des résultats fiables.

Sources de pulvérisation rondes et carrées

Nos sources de pulvérisation rondes et carrées comportent une modular magnet array designed for exceptional uniformity. This modularity allows easy optimization for your process requirements, ensuring consistent film thickness and quality.

Deposition Monitors & Controllers

Achieve total control over your coating process. Our monitors and controllers measure épaisseur du film, taux de dépôt, fréquence du cristal avec une grande précision. Plusieurs canaux indépendants vous permettent de :

• Suivre simultanément différents matériaux
• Données moyennes des capteurs pour une uniformité améliorée
• Maintenir des conditions de dépôt stables et reproductibles