Sputterquellen

UHV-Magnetron-Sputterquellen

Unsere auf Flexibilität und Leistung ausgelegten UHV-Magnetron-Sputterquellen unterstützen Folgendes:

• Hoch- oder Niederenergie-Elektronenbetrieb
• Magnetische und nichtmagnetische Zielmaterialien
• Mehrere unausgeglichene Magnetronkonfigurationen
• Hoch- oder Niedrigstrom-Sputteranlagen
• Betrieb mit Gleichstrom-, gepulsten Gleichstrom- oder HF-Netzteilen

Egal ob Sie Präzision, Geschwindigkeit oder Vielseitigkeit benötigen, diese Quellen liefern zuverlässige Ergebnisse.

Runde und quadratische Sputterquellen

Unsere runden und quadratischen Sputterquellen zeichnen sich durch eine modulare Magnetanordnung Entwickelt für außergewöhnliche Gleichmäßigkeit. Die Modularität ermöglicht eine einfache Optimierung für Ihre Prozessanforderungen und gewährleistet so eine gleichbleibende Filmdicke und -qualität.