Sputtertargets

Sputtertargets für die Dünnschichtabscheidung

Hochreine Metall-Sputtertargets

Hochreine Metalltargets von 99.9% bis 99.9999%Entwickelt für die stabile und hochwertige Dünnschichtabscheidung. Ideal für die Halbleiterfertigung, IC-Beschichtungen, Glasbeschichtungen sowie dekorative und funktionelle Oberflächen. Konstant in der Leistungsfähigkeit für Forschung und Serienproduktion.

Bestellformat: • Erste X = Dimension • Sekunde X = Dicke • Hinzufügen „-BP“ für die Trägerplatte

Legierungs-Sputtertargets

Präzise gefertigte Legierungstargets kombinieren ein Hauptmetall mit ausgewählten zusätzlichen Elementen. Hervorragende thermische und elektrische Leitfähigkeit, stabiles Sputterverhalten und anpassbare Zusammensetzungen für maßgeschneiderte Filmeigenschaften.

Vorteile: • Kontrollierte Elementzusammensetzung • Gleichbleibende Materialeigenschaften • Zuverlässige, reproduzierbare Beschichtungsergebnisse

Oxidkeramische Sputtertargets

Hergestellt durch Hochtemperatursintern für außergewöhnliche Stabilität und Langlebigkeit. Erhältlich als einfache oder komplexe Oxidkeramik mit maßgeschneiderten elektrischen, optischen oder mechanischen Eigenschaften für fortschrittliche Dünnschichtanwendungen.

Sputtertargets für Seltene Erden (REE)

Targets aus den 17 Seltenerdelementen, die aufgrund ihrer einzigartigen elektrischen, magnetischen und optischen Eigenschaften geschätzt werden. Ideal für Elektronik, Optik, Energietechnologien und Hochleistungsbeschichtungen.