Sputtertargets aus Metall

Unser Inventar umfasst ein breites Spektrum an hochreinen Metall-Sputtertargets, mit Reinheitsgraden, die von 99.9% bis 99.9999%Diese Targets wurden für Präzision und Zuverlässigkeit entwickelt und eignen sich für anspruchsvolle Dünnschichtabscheidungsprozesse in verschiedenen Branchen.

Zu den idealen Anwendungen gehören:

• Halbleiter- und Mikroelektronikfertigung
• Beschichtungen für integrierte Schaltkreise (ICs)
• Glas und architektonische Beschichtungen
• Dekorative und funktionelle Oberflächen

Jedes Ziel wird so gefertigt, dass es liefert gleichbleibende Leistung, hervorragende Filmqualität und hohe ProzessstabilitätDadurch eignen sie sich sowohl für Forschungs- als auch für Produktionsumgebungen mit hohem Durchsatz.

Bestellinformationen

Um eine korrekte Bearbeitung Ihrer Bestellung zu gewährleisten, geben Sie bitte die folgenden Informationen an: Artikelnummer und befolgen Sie die untenstehende Namenskonvention:

• Ersetzen Sie die erstes „X“ mit der angeforderten Dimension
• Ersetzen Sie die zweites „X“ mit der angeforderten Dicke
• Füge das Suffix hinzu „-BP“ um die Einbeziehung eines Trägerplatte