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Erleben Sie Präzision, Reinheit und Zuverlässigkeit mit unserer fortschrittlichen Produktpalette. Elektronenstrahlverdampfer, Magnetron-Sputterquellen und komplette Ablagerungssysteme.
Mit unserer Elektronenstrahlverdampfungstechnologie lassen sich außergewöhnlich gleichmäßige, hochreine Schichten erzeugen. Jede Quelle verwendet eine selbstbeschleunigter Elektronenstrahl erzeugt durch einen heißen Wolframdraht bei hohem negativem Potenzial, wodurch Folgendes ermöglicht wird:
Unsere auf Flexibilität und Leistung ausgelegten UHV-Magnetron-Sputterquellen unterstützen Folgendes:
Egal ob Sie Präzision, Geschwindigkeit oder Vielseitigkeit benötigen, diese Quellen liefern zuverlässige Ergebnisse.
Unsere runden und quadratischen Sputterquellen zeichnen sich durch eine modulare Magnetanordnung Entwickelt für außergewöhnliche Gleichmäßigkeit. Die Modularität ermöglicht eine einfache Optimierung für Ihre Prozessanforderungen und gewährleistet so eine gleichbleibende Filmdicke und -qualität.
Erreichen Sie die volle Kontrolle über Ihren Beschichtungsprozess. Unsere Monitore und Steuerungen messen Schichtdicke, Ablagerungsrateden Kristallfrequenz mit hoher Genauigkeit. Mehrere unabhängige Kanäle ermöglichen Ihnen Folgendes:




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