Roterende elektronenbundelverdamper uit de RC-serie, 3 kW, 4 cc, met sweepspoel

Hoogwaardige dunnefilmdepositieapparatuur

Ontgrendel precisie, zuiverheid en betrouwbaarheid met ons geavanceerde assortiment. e-bundelverdampers, magnetron sputterbronnenen complete afzettingssystemen.

Elektronenbundelverdampingsbronnen

Creëer uitzonderlijk uniforme, zeer zuivere films met onze elektronenbundelverdampingstechnologie. Elke bron maakt gebruik van een zelfversnellende elektronenbundel gegenereerd door een hete wolfraamgloeidraad met een hoge negatieve potentiaal, waardoor het volgende mogelijk wordt:

• Schone, gecontroleerde verdamping van materiaal
• Superieure optische coatings
• Constante filmkwaliteit bij veeleisende toepassingen.

UHV-magnetron-sputterbronnen

Onze UHV-magnetron sputterbronnen zijn ontworpen voor flexibiliteit en prestaties en bieden ondersteuning voor:

• Elektronenwerking met hoge of lage energie
• Magnetische en niet-magnetische doelmaterialen
• Meerdere ongebalanceerde magnetronconfiguraties
• Sputteropstellingen met hoge of lage snelheid
• Werking met gelijkstroom-, gepulseerde gelijkstroom- of RF-voedingen.

Of u nu behoefte heeft aan precisie, snelheid of veelzijdigheid, deze bronnen leveren betrouwbare resultaten.

Ronde en vierkante sputterbronnen

Onze ronde en vierkante sputterbronnen beschikken over een modulaire magneetarray Ontworpen voor uitzonderlijke uniformiteit. Deze modulariteit maakt eenvoudige optimalisatie voor uw procesvereisten mogelijk, waardoor een consistente filmdikte en -kwaliteit worden gegarandeerd.

Toezichthouders en controllers bij getuigenverhoren

Krijg volledige controle over uw coatingproces. Onze monitoren en controllers meten alles nauwkeurig. film dikte, afzettingssnelheidof kristalfrequentie Met hoge nauwkeurigheid. Meerdere onafhankelijke kanalen stellen u in staat om:

• Volg verschillende materialen tegelijkertijd.
• Gemiddelde sensorgegevens voor verbeterde uniformiteit
• Zorg voor stabiele, reproduceerbare afzettingsomstandigheden.