RF/DC UHV-sputterbron voor doel van 10.0″ x 0.38″

Maximale flexibiliteit. Geoptimaliseerde prestaties. Gebouwd voor UHV.

De A300-XP-serie magnetron sputterbronnen zijn ontworpen voor geavanceerde dunnefilmdepositie waarbij controle, veelzijdigheid en doelgericht gebruik is het allerbelangrijkste. De kern van het ontwerp is een Modulaire magneetarray, volledig gescheiden van het koelwater om degradatie te voorkomen en prestaties op lange termijn te garanderen. Deze configuratie maakt het mogelijk gemakkelijke toegang tot de interne magneetindelingwaardoor snelle herconfiguratie voor verschillende procesvereisten mogelijk is.

Met één enkele bron kunnen gebruikers het volgende bereiken:

• Uniforme of opzettelijk niet-uniforme afzettingsprofielen
• Gebalanceerde en ongebalanceerde magnetronwerking
• Geoptimaliseerde doelbenutting en een verlengde levensduur van het doelwit

Het modulaire magnetische ontwerp ondersteunt een breed werkingsbereik, waaronder:

• Hoge of lage elektronenenergie operatie
• Magnetische materiaaldoeleninclusief dikkere doelen
• meervoudig ongebalanceerde magnetronconfiguraties
• Sputteren met hoge of lage snelheid processen

De A300-XP-serie is ontworpen voor efficiëntie en gebruiksgemak en biedt bovendien de volgende mogelijkheden: eenvoudige verwijdering van grote magnetische objecten en integreert een gasinjectie- en schoorsteensysteem voor verbeterde plasmastabiliteit en procesefficiëntie.

Geavanceerde functies

• RF- en DC-compatibel
• Echte UHV-constructie
• Breed werkdrukbereik
• optioneel kantelhoeken voor uniformiteitsoptimalisatie
• Uitgebreid aanpassingsopties Beschikbaar
• Volledige bron-/voeding-/doelpakketten klaar voor inzet

Belangrijkste specificaties

• Target diameter (A310 – A320): 1.0 ″ - 6.0 ″
• Maximaal vermogen (DC / RF): 150 / 150 W tot 2500 / 1500 W
• Koelwaterdebiet: 0.5 – 5.0 L/min
• Diameter van de bronkop: 1.33 ″ - 7.70 ″
• Hoogte van de bronkop: 2.00 ″ - 6.00 ″

De A300-XP-serie Het biedt ongeëvenaarde aanpasbaarheid voor onderzoeks-, ontwikkelings- en productieomgevingen, waardoor het een ideale keuze is voor gebruikers die hoge eisen stellen. Nauwkeurige besturing, hoge doorvoer en betrouwbaarheid van UHV-niveau..