Sputterbronnen

UHV-magnetron-sputterbronnen

Onze UHV-magnetron sputterbronnen zijn ontworpen voor flexibiliteit en prestaties en bieden ondersteuning voor:

• Elektronenwerking met hoge of lage energie
• Magnetische en niet-magnetische doelmaterialen
• Meerdere ongebalanceerde magnetronconfiguraties
• Sputteropstellingen met hoge of lage snelheid
• Werking met gelijkstroom-, gepulseerde gelijkstroom- of RF-voedingen.

Of u nu behoefte heeft aan precisie, snelheid of veelzijdigheid, deze bronnen leveren betrouwbare resultaten.

Ronde en vierkante sputterbronnen

Onze ronde en vierkante sputterbronnen beschikken over een modulaire magneetarray Ontworpen voor uitzonderlijke uniformiteit. Deze modulariteit maakt eenvoudige optimalisatie voor uw procesvereisten mogelijk, waardoor een consistente filmdikte en -kwaliteit worden gegarandeerd.