Metalen sputterdoelen

Ons assortiment omvat een breed scala aan sputterdoelen van zeer zuiver metaal, met zuiverheden variërend van 99.9% tot 99.9999%Deze targets zijn ontworpen voor precisie en betrouwbaarheid en zijn geschikt voor veeleisende dunnefilmdepositieprocessen in diverse industrieën.

Ideale toepassingen zijn onder meer:

• Productie van halfgeleiders en micro-elektronica
• coatings voor geïntegreerde schakelingen (IC's)
• Glas en architectonische coatings
• Decoratieve en functionele oppervlakteafwerkingen

Elk doelwit wordt vervaardigd om te leveren consistente prestaties, uitstekende filmkwaliteit en hoge processtabiliteitwaardoor ze geschikt zijn voor zowel onderzoeks- als grootschalige productieomgevingen.

informatie ordenen

Om uw bestelling correct te kunnen verwerken, verzoeken wij u de volgende gegevens te verstrekken: Artikel nummer en volg de onderstaande naamgevingsconventie:

• Vervang de eerste “X” met het gevraagde dimensie
• Vervang de tweede “X” met het gevraagde dikte
• Voeg het achtervoegsel toe “-BP” om de opname van een aan te geven bakplaat