Verdampingsmaterialen

Sputterdoelen voor dunnefilmafzetting

Hoogzuivere metaal sputterdoelen

Hoogzuivere metalen targets van 99.9% tot 99.9999%Ontwikkeld voor stabiele, hoogwaardige dunnefilmdepositie. Ideaal voor de fabricage van halfgeleiders, IC-coatings, glascoatings en decoratieve of functionele afwerkingen. Ontworpen voor consistente prestaties in zowel onderzoek als grootschalige productie.

Bestelformaat: • Eerst X = dimensie • Tweede X = dikte • Toevoegen “-BP” voor achterplaat

Lichtmetalen sputterdoelen

Nauwkeurig ontworpen legeringsdoelen, bestaande uit een primair metaal met geselecteerde extra elementen. Uitstekende thermische en elektrische geleidbaarheid, stabiel sputtergedrag en aanpasbare samenstellingen voor filmeigenschappen op maat.

Voordelen: • Gecontroleerde elementaire samenstelling • Consistente materiaalprestaties • Betrouwbare, reproduceerbare coatingresultaten

Oxide keramische sputterdoelen

Vervaardigd door middel van sinteren bij hoge temperaturen voor uitzonderlijke stabiliteit en duurzaamheid. Verkrijgbaar als eenvoudige of complexe oxidekeramiek, met op maat gemaakte elektrische, optische of mechanische eigenschappen voor geavanceerde dunnefilmtoepassingen.

Sputterdoelen voor zeldzame aardmetalen (REE)

Doelwitten gemaakt van de 17 zeldzame aardmetalen, gewaardeerd om hun unieke elektrische, magnetische en optische eigenschappen. Ideaal voor elektronica, optica, energietechnologieën en hoogwaardige coatings.