Pureté cible de l'oxyde d'ytterbium : 99,99 %

Cibles de pulvérisation

La pulvérisation cathodique est un procédé éprouvé et polyvalent pour le dépôt de couches minces de haute qualité sur une large gamme de substrats de formes et de dimensions variées. Elle offre une excellente uniformité, une grande reproductibilité et une facilité de mise à l'échelle, ce qui la rend idéale pour la R&D et la production en grande série.

Nous proposons Cibles de pulvérisation entièrement personnalisées pour répondre précisément à vos exigences de processus, notamment :

• Configurations monoblocs ou collées
• Matériaux métalliques, en alliage et en céramique
• Formats de cibles planes et rotatives

Nos cibles de précision sont conçues pour garantir des performances stables, une utilisation optimale des matériaux et des résultats de revêtement constants, lot après lot.

Matériaux d'évaporation

Le dépôt par évaporation est une méthode efficace pour créer des films minces ultra-purs et uniformes. Chauffé sous vide, le matériau se vaporise et se dépose directement sur le substrat, où il se condense pour former un revêtement lisse et contrôlé.

Cette technique permet :

• Pureté et adhérence du film excellentes
• Contrôle précis de l'épaisseur
• Compatibilité avec une large gamme de matériaux et de substrats

Que vous ayez besoin de revêtements fonctionnels ou de finitions décoratives, nos matériaux d'évaporation de haute qualité vous offrent des résultats fiables et adaptés à votre application.