Source de pulvérisation RF/DC UHV pour cathode de 8.0″ x 0.38″

Flexibilité maximale. Performances optimisées. Conçu pour l'ultra-vide.

Le Sources de pulvérisation magnétronique série A300‑XP sont conçus pour le dépôt de couches minces avancées où contrôle, polyvalence et utilisation de la cible ce qui compte le plus. Au cœur de la conception se trouve un Réseau d'aimants modulaires, totalement séparée de l'eau de refroidissement afin d'éviter toute dégradation et de garantir des performances à long terme. Cette configuration permet accès facile à la disposition interne de l'aimant, permettant une reconfiguration rapide pour répondre aux différentes exigences des processus.

À partir d'une source unique, les utilisateurs peuvent obtenir :

• Profils de dépôt uniformes ou intentionnellement non uniformes
• Fonctionnement du magnétron équilibré et déséquilibré
• Optimisé utilisation de la cible et une durée de vie cible prolongée

La conception magnétique modulaire permet une large plage de fonctionnement, notamment :

• Énergie électronique élevée ou faible la vente au détail XNUMXh/XNUMX
• Cibles de matériaux magnétiques, y compris des cibles plus épaisses
• Multiple configurations de magnétrons déséquilibrées
• Pulvérisation cathodique à haut ou bas débit les process

Conçue pour l'efficacité et la facilité d'utilisation, la série A300‑XP permet également retrait facile des grandes cibles magnétiques et intègre un système d'injection de gaz et de cheminée pour une meilleure stabilité du plasma et une efficacité de processus accrue.

Fonctionnalités avancées

• Compatible RF et CC
• Véritable construction UHV
• Large plage de pression de fonctionnement
• Optionnel angles d'inclinaison pour l'optimisation de l'uniformité
• Étendu options de personnalisation disponibles
• emballages source / alimentation / cible prêt à être déployé

Caractéristiques principales

• Diamètre cible (A310 – A320) : 1.0 "- 6.0"
• Puissance maximale (CC/RF) : 150 / 150 W jusqu'à 2500 / 1500 W
• Débit d'eau de refroidissement : 0.5 – 5.0 L/min
• Diamètre de la tête de source : 1.33 "- 7.70"
• Hauteur de la tête source : 2.00 "- 6.00"

Le Série A300‑XP offre une adaptabilité inégalée aux environnements de recherche, de développement et de production, ce qui en fait un choix idéal pour les utilisateurs exigeants. Contrôle de précision, débit élevé et fiabilité de niveau UHV.