Évaporateur rotatif à faisceau d'électrons série HC à quatre poches, 10 kW, 40 cc, à commande manuelle, montage sur bride en option

An source d'évaporation par faisceau d'électrons est utilisé pour produire des films et des revêtements optiques uniformes et de haute pureté, fonctionnant comme un dispositif à faisceau d'électrons auto-accéléré avec un filament de tungstène chaud générant un faisceau d'électrons à un potentiel négatif élevé.

Sources de pulvérisation rondes et carrées disposent d'un réseau d'aimants modulaire. Ces sources peuvent atteindre une excellente uniformité.

Sources de pulvérisation magnétron UHV, fonctionnent avec des énergies électroniques élevées ou faibles, des cibles de matériaux magnétiques, diverses configurations de magnétron déséquilibrées et des configurations de pulvérisation à débit élevé ou faible. Les sources de pulvérisation cathodique peuvent fonctionner avec des alimentations CC et RF (pulsées).

Moniteurs et contrôleurs de dépôts Mesurez l'épaisseur/le taux ou la fréquence du film en utilisant des cristaux comme dispositif de capteur. Des canaux indépendants surveillent différents films ou font la moyenne de différents capteurs ensemble pour fournir une mesure de dépôt plus uniforme