Cibles de pulvérisation

Cibles de pulvérisation pour le dépôt de couches minces

Cibles de pulvérisation cathodique en métal de haute pureté

Cibles métalliques de haute pureté provenant de 99.9% à 99.9999%Conçu pour le dépôt de couches minces stables et de haute qualité, ce procédé est idéal pour la fabrication de semi-conducteurs, le revêtement de circuits intégrés, le revêtement de verre et les finitions décoratives ou fonctionnelles. Il garantit des performances constantes aussi bien en recherche qu'en production de masse.

Format de commande : • D'abord X = dimension • Seconde X = épaisseur • Ajouter « -BP » pour plaque de support

Cibles de pulvérisation d'alliage

Cibles en alliage de haute précision, combinant un métal principal à des éléments additionnels sélectionnés. Excellente conductivité thermique et électrique, comportement stable lors de la pulvérisation cathodique et compositions personnalisables pour des propriétés de film sur mesure.

Avantages : • Composition élémentaire contrôlée • Performances constantes des matériaux • Résultats de revêtement fiables et reproductibles

Cibles de pulvérisation cathodique en céramique d'oxyde

Fabriquées par frittage à haute température pour une stabilité et une durabilité exceptionnelles, ces céramiques d'oxydes simples ou complexes offrent des propriétés électriques, optiques ou mécaniques sur mesure pour des applications de couches minces avancées.

Cibles de pulvérisation cathodique pour éléments de terres rares (ETR)

Cibles composées des 17 terres rares, prisées pour leurs propriétés électriques, magnétiques et optiques uniques. Idéales pour l'électronique, l'optique, les technologies énergétiques et les revêtements haute performance.