RF/DC-UHV-Sputterquelle für 4.0″ x 0.25″ Target

Maximale Flexibilität. Optimierte Leistung. Entwickelt für UHV.

Das Magnetron-Sputterquellen der Serie A300-XP sind für die fortschrittliche Dünnschichtabscheidung konzipiert, bei der Kontrolle, Vielseitigkeit und Zielnutzung Das Wichtigste ist: Im Zentrum des Designs steht ein Modulare Magnetanordnung, vollständig vom Kühlwasser getrennt, um Verschleiß zu verhindern und eine langfristige Leistungsfähigkeit zu gewährleisten. Diese Konfiguration ermöglicht einfacher Zugang zur internen Magnetanordnungwodurch eine schnelle Umkonfiguration für unterschiedliche Prozessanforderungen ermöglicht wird.

Mit einer einzigen Datenquelle können Nutzer Folgendes erreichen:

• Gleichmäßige oder absichtlich ungleichmäßige Ablagerungsprofile
• Ausgeglichener und unausgeglichener Magnetronbetrieb
• Optimiert Zielnutzung und verlängerte Ziellebensdauer

Die modulare Magnetbauweise unterstützt einen breiten Einsatzbereich, einschließlich:

• Hohe oder niedrige Elektronenenergie Betrieb
• Ziele aus magnetischem Materialeinschließlich dickerer Ziele
• Mehrere unausgeglichene Magnetronkonfigurationen
• Hoch- oder Niedrigraten-Sputtern und Materialstammdaten

Die A300-XP-Serie wurde auf Effizienz und Benutzerfreundlichkeit ausgelegt und ermöglicht außerdem einfaches Entfernen großer magnetischer Ziele und integriert eine Gaseinspritz- und Schornsteinsystem zur Verbesserung der Plasmastabilität und der Prozesseffizienz.

Erweiterte Funktionen

• RF- und DC-kompatibel
• Echte UHV-Konstruktion
• Großer Betriebsdruckbereich
• Optional Neigungswinkel zur Optimierung der Gleichmäßigkeit
• Umfassendem Anpassungsmöglichkeiten verfügbar
• Komplett Quelle / Stromversorgung / Zielpakete bereit zum Einsatz

Wichtige technische Daten

• Zieldurchmesser (A310 – A320): 1.0 "- 6.0"
• Maximale Leistung (DC / HF): 150 / 150 W bis 2500 / 1500 W
• Kühlwasserdurchfluss: 0.5 – 5.0 l/min
• Durchmesser des Quellkopfes: 1.33 "- 7.70"
• Quellenkopfhöhe: 2.00 "- 6.00"

Das A300-XP-Serie bietet unübertroffene Anpassungsfähigkeit für Forschungs-, Entwicklungs- und Produktionsumgebungen – und ist damit die ideale Wahl für Anwender, die hohe Ansprüche stellen. Präzisionssteuerung, hoher Durchsatz und Zuverlässigkeit auf UHV-Niveau.