Hochleistungs-Dünnschichtabscheidungsanlagen
Erleben Sie Präzision, Reinheit und Zuverlässigkeit mit unserer fortschrittlichen Produktpalette. Elektronenstrahlverdampfer, Magnetron-Sputterquellen und komplette Ablagerungssysteme.
Elektronenstrahlverdampfungsquellen
Mit unserer Elektronenstrahlverdampfungstechnologie lassen sich außergewöhnlich gleichmäßige, hochreine Schichten erzeugen. Jede Quelle verwendet eine selbstbeschleunigter Elektronenstrahl erzeugt durch einen heißen Wolframdraht bei hohem negativem Potenzial, wodurch Folgendes ermöglicht wird:
- Saubere, kontrollierte Materialverdampfung
- Hochwertige optische Beschichtungen
- Gleichbleibende Filmqualität bei anspruchsvollen Anwendungen
UHV-Magnetron-Sputterquellen
Unsere auf Flexibilität und Leistung ausgelegten UHV-Magnetron-Sputterquellen unterstützen Folgendes:
- Hoch- oder Niederenergie-Elektronenbetrieb
- Magnetische und nichtmagnetische Zielmaterialien
- Mehrere unausgeglichene Magnetronkonfigurationen
- Hoch- oder Niedrigstrom-Sputteranlagen
- Betrieb mit Gleichstrom-, gepulsten Gleichstrom- oder HF-Netzteilen
Egal ob Sie Präzision, Geschwindigkeit oder Vielseitigkeit benötigen, diese Quellen liefern zuverlässige Ergebnisse.
Runde und quadratische Sputterquellen
Unsere runden und quadratischen Sputterquellen zeichnen sich durch eine modulare Magnetanordnung Entwickelt für außergewöhnliche Gleichmäßigkeit. Die Modularität ermöglicht eine einfache Optimierung für Ihre Prozessanforderungen und gewährleistet so eine gleichbleibende Filmdicke und -qualität.
Ablagerungsmonitore und -steuerungen
Erreichen Sie die volle Kontrolle über Ihren Beschichtungsprozess. Unsere Monitore und Steuerungen messen Schichtdicke, Ablagerungsrateden Kristallfrequenz mit hoher Genauigkeit. Mehrere unabhängige Kanäle ermöglichen Ihnen Folgendes:
- Verfolgen Sie gleichzeitig verschiedene Materialien
- Durchschnittliche Sensordaten für verbesserte Gleichmäßigkeit
- Stabile, reproduzierbare Abscheidungsbedingungen aufrechterhalten